Silvaco TCAD 2024 最新Linux&WIN版

一、软件介绍

Silvaco TCAD 2024 是一款在半导体领域具有重要地位的仿真软件，它为工程师提供了一套全面的工具，用于模拟和分析半导体工艺和器件的性能。该软件在半导体设计和制造过程中发挥着关键作用，能够帮助用户准确预测器件在不同条件下的行为，从而降低开发成本，缩短产品上市时间。

Silvaco TCAD 2024 的主要功能包括工艺仿真、器件仿真和电路仿真。它能够模拟从晶体生长到器件制造的整个过程，帮助用户优化制造工艺，提高器件性能。此外，该软件还提供了丰富的物理模型和材料数据库，支持多种半导体材料和器件结构的仿真。通过使用 Silvaco TCAD 2024，用户可以在虚拟环境中进行实验，观察器件内部的物理过程，从而更好地理解器件的行为和性能。

二、软件截图

Windows截图

三、新版特点

Silvaco TCAD 2024 的新版特点主要体现在以下几个方面：

1. 增强的工艺仿真能力：新版软件在工艺仿真方面进行了多项改进，能够更准确地模拟复杂的半导体制造过程。例如，它支持更精确的刻蚀和沉积过程模拟，帮助用户优化工艺参数，提高器件的制造精度。

2. 改进的器件仿真功能：在器件仿真方面，新版软件提供了更高效的求解器和更精确的物理模型，能够更快速地模拟器件的电气性能。此外，它还支持对新型器件结构（如 FinFET 和 GAA）的仿真，满足了先进半导体技术的需求。

3. 数字孪生建模：新版软件引入了数字孪生建模功能，利用人工智能和机器学习技术，结合物理仿真和实验数据，生成数字孪生模型。这些模型能够精确反映物理器件的形态、拟合和功能，帮助用户优化制造流程，降低成本，提高产量。

4. 用户界面优化：为了提高用户体验，新版软件对用户界面进行了优化，使其更加直观和易用。用户可以更方便地进行仿真设置和结果分析，从而提高工作效率。

四、更新日志

• 2024.03 版本：

  • 增强了工艺仿真模块，支持更复杂的刻蚀和沉积过程模拟。

  • 改进了器件仿真求解器，提高了仿真速度和精度。

  • 引入了数字孪生建模功能，支持利用 AI 和 ML 技术进行工艺优化。

• 2024.09 版本：

  • 扩展了对先进 CMOS 技术的支持，包括 FinFET 和 GAA 器件的仿真。

  • 支持低温应用的原子级量子输运模拟，能够精确建模低温下的器件结构。

  • 优化了用户界面，提高了操作的便捷性和用户体验。

五、高速下载链接

VM17.6.2下载链接：点击下载